Verschil tussen ionenimplantatie en diffusie

Ionenimplantatie en diffusie zijn twee technieken die worden gebruikt bij de productie van halfgeleiders met andere materialen. Het belangrijkste verschil tussen ionenimplantatie en diffusie is dat ionenimplantatie isotroop en zeer directioneel is, terwijl diffusie isotroop is en er laterale diffusie is.

1. Waarom ionenimplantatie de voorkeur heeft boven diffusie?
2. Wat wordt bedoeld met ionenimplantatie?
3. Wat is het voordeel van het gebruik van een ionenimplantatieproces?
4. Waarom gloeien nodig is na ionenimplantatie?
5. Wat is ionenimplantatie in halfgeleider?
6. Wat is gloeien bij ionenimplantatie?
7. Wat is ionkanalen?
8. Wat is vlamharden en ionenimplantatie?
9. Wat bevat ionenbron?

Waarom ionenimplantatie de voorkeur heeft boven diffusie?

We zagen hoe doteermiddelen in een wafel werden gebracht door middel van diffusie ('predeposition' en 'drive-in'). Ionenimplantatie heeft de voorkeur omdat: -gecontroleerde, lage of hoge dosis kan worden geïntroduceerd (1011 - 1018 cm-2) -diepte van implantaat kan worden gecontroleerd. Gebruikt sinds 1980, ondanks substraatschade; lage doorvoer en kosten.

Wat wordt bedoeld met ionenimplantatie?

Ionenimplantatie is een proces van oppervlaktebehandeling waarbij ionen van stikstof of koolstof worden versneld en gedwongen worden om het oppervlak van een component te penetreren om slijtvastheid te verlenen. ... Met deze benadering kan een ionenbundel met hoge energie (50 tot 200 keV) op het componentoppervlak worden gericht.

Wat is het voordeel van het gebruik van een ionenimplantatieproces?

De voordelen van ionenimplantatie zijn onder meer de mogelijkheid om vrijwel elke ionensoort in elk substraat te implanteren met een hoge mate van controle van locatie (lateraal en diepte) en samenstelling.
...
Invoering.

Waarom gloeien nodig is na ionenimplantatie?

Tijdens de implantatie worden de geïmplanteerde doteermiddelen in het silicium gebombardeerd, en dit proces produceert puntdefecten in het rooster. ... de gloeitoestand heeft een groot effect op ion-geïmplanteerde zonnecellen omdat ze de activering en het diffusieprofiel van de ion-geïmplanteerde doteermiddelen regelen.

Wat is ionenimplantatie in halfgeleider?

Ionenimplantatie is een proces bij lage temperatuur waarbij ionen van één element worden versneld tot een vast doel, waardoor de fysische, chemische of elektrische eigenschappen van het doel worden veranderd. Ionenimplantatie wordt gebruikt bij de fabricage van halfgeleiderapparaten en bij het afwerken van metalen, evenals bij materiaalwetenschappelijk onderzoek.

Wat is gloeien bij ionenimplantatie?

Ionenimplantaatschade Gloeien. Ionenimplantatieschade Gloeien. Ionenimplantatie is het proces waarbij chemische doteermiddelen in een substraat worden gedeponeerd door het substraat direct te bombarderen met hoogenergetische ionen van de chemische stof die wordt afgezet.

Wat is ionkanalen?

De invloed van het kristalrooster op de banen van ionen die het kristal binnendringen, staat bekend als channeling - een term die de atomaire rijen en vlakken visualiseert als geleiders die energetische ionen langs de kanalen tussen rijen en vlakken sturen..

Wat is vlamharden en ionenimplantatie?

Inductieharden omvat het gebruik van geïnduceerde elektrische stromen om zeer snel warmte te genereren via hysterese, meestal in een werkstuk gemaakt van medium tot hoog koolstofstaal. Bij vlamharden worden autogeen branders gebruikt om het werkstuk via geleiding te verwarmen.

Wat bevat ionenbron?

Een ionenbron is een apparaat dat atomaire en moleculaire ionen creëert. Ionenbronnen worden gebruikt om ionen te vormen voor massaspectrometers, optische emissiespectrometers, deeltjesversnellers, ionenimplantatoren en ionenmotoren.